知识产权保护的忧患
张 平
今天我们已经有与世界完全接轨的知识产权法律制度，但是，在知识产权保护与经营的意识和利用上还有巨大差距。一个结构完整的法律文本、一套可以与国际最新最高标准接轨的知识产权制度并不足以成为衡量一国知识产权制度有效实施的标准，而只有让市场主体学会如何利用这一制度，才能实现真正意义上的知识产权保护。
研发队伍是技术创新的前提和保证，如果没有相当规模的研发人员做后盾，专利战略就是无本之木，无源之水。但是，无论从政府的优惠政策上还是研发主体的个人行为上，我国科技人才和科研成果向国内的外资公司和外资研发机构流失的现象越来越严重，这里可以归纳为明流与暗流两种现象。
明流———政府给予外资研发机构的优惠，推动跨国公司在境内设立研发机构，其对于区域经济发展和提升科技竞争力的重要性毋庸置疑，但是外资在境内设立研发机构也开始了一场高级研发人员和管理人员的争夺。
据2004年10月国家科技部发布的消息，“在我国以各种形式设立的外资研发中心已经超过600家，北京市累计设立外资研发中心已近200家，这些研发机构主要集中在高技术领域，其中IT领域的外资研发机构就有100多家，北京已经成为了跨国ICT企业设立研究开发机构的首选之地”。政府还将继续鼓励这样的机构进入北京市，在北京市政府《关于振兴北京现代制造业的意见》中就有这样的措施：“进一步吸引著名跨国公司来京建立地区总部、研发基地和采购中心”，在税收优惠政策上也对这类机构更加宽松。跨国公司在京设立研发机构，使政府意识到研发对于区域经济发展和提升科技竞争力的重要性，是政府研发政策出台的诱因。但是外资在京设立研发机构也直接造成研发资源的流失，使得原本就创新不足的中资机构更加缺乏创新人才。由于外资的高薪和良好的工作环境，研发人员积极向这些外资机构流动，并且，流走的大部分是已经有一定的研究成果和有经验的优秀人才。如果不采取相对的制约措施，盲目的鼓励必将导致科研资源从源头流失。
暗流———外资还通过资助项目与国家重点实验室、研究基地、大学等进行合作。合同往往是外方提供的范本，一般有关研发成果权属的约定都归出资方所有，即使约定了“共同享有知识产权”的，也会伴有出资方“独家使用”、“优先使用”等条款，而实际上，在市场化能力上，出资方企业与我方的研究机构简直就是天壤之别，约定外企与我方共有，实质意义很小，实际上也很少有在外方企业实施研发成果后我方作为共有权人去主张获酬权的。这样的条款仅体现了形式上的公平。如此看来，我们的大学和公共研究机构在这些项目上充当的就是外资企业的研发部门。当然我们还有其他收获，比如获得了很可观的资助经费，带动了研发人员的培养，提高了研发水平等等，但是当知识产权不属于我们的时候，这一切都偏离了我们的战略目标。
我们正在从“贴牌生产(OEM)”向“贴牌研发(ODM)”发展，而后者带来的隐患更为严重。
